中美科技角力升溫，在半導體專利上也燃起戰火。大陸國企、科創板上市公司北京屹唐半導體13日宣布，已向北京知識產權法院正式起訴美國晶片設備巨頭應用材料（AMAT），指控對方非法獲取並使用屹唐的核心製程技術，並透過在大陸申請專利的方式公開商業機密，屹唐的索賠金額高達人民幣9999萬元（約4.2億新台幣）。
根據屹唐向上海證券交易所遞交的公告，涉案技術包括「等離子體源」及「晶圓表面處理」兩大核心環節。該公司指稱，應用材料透過聘用兩名前美商得昇科技（Mattson Technology）的員工（屹唐於2016年收購該公司），並將其列為大陸專利申請的主要發明人，直接洩露原本由屹唐與得昇共同持有的機密技術，行為涉嫌違反大陸《反不正當競爭法》，構成侵犯商業秘密。
北京知識產權法院已於13日立案受理，但尚未開庭審理，應用材料截至目前則未對此事提出說法。實際上，屹唐與應用材料的專利糾紛並非首次爆發，早在2022年，應用材料曾控告得昇聘用前員工竊取商業機密；2023年，得昇又反指應用材料有相似行為。此次則是屹唐直接以母公司身份出手，將矛頭指向美方，爭議進一步升級。
屹唐在公告中強調，本次訴訟不會對公司正常生產經營造成重大不利影響，實際影響仍有待法院判決結果。公司並重申，將對任何侵犯知識產權與商業秘密的行為採取法律行動，「以維護公平公正的市場競爭環境」。
