美中科技戰角力不斷，美國意圖阻止頂尖半導體技術與產品流入大陸。然而，外媒引述知情人士透露，今年年初，陸方的科學團隊已在深圳一處秘密實驗室中，成功打造出一項華府多年來試圖阻止中國取得的設備——極紫外光（EUV）光刻機的原型，一台可用於生產尖端半導體晶片的超級設備。
根據路透報導，消息人士形容這項祕密工程是「中國版曼哈頓計劃」（二戰期間美國研製原子彈的機密工程），該EUV光刻機由荷蘭半導體設備大廠ASML的前工程師透過逆向工程打造，目前中國的原型機已能成功產生EUV光源，但尚未製造可實際運作的晶片。
報導進一步指出，該計畫是在中國國家半導體戰略框架下推動，由習近平親信、中央科技委員會主任丁薛祥負責領導監督，其中華為扮演關鍵角色，協調國家科研機構、供應商與工程團隊組成的龐大網絡，該計畫涉及數千名人員，若中國未來能量產尖端半導體晶片，相關晶片將可用於人工智慧、智慧型手機以及現代武器系統。
兩名知情人士透露，中國透過二手市場取得舊款ASML設備零組件，作為打造這台國產EUV光刻機原型的關鍵來源。
今年4月，ASML執行長富凱（Christophe Fouquet）曾表示，中國需要「很多年」才能研發出這類技術；而陸方原本設定的目標是在2028年實現晶片量產，消息人士認為，依目前進度評估，實際落實時間可能延後至2030年左右。不過，該計畫已顯示中國在推動半導體自主方面，進展較外界分析預期地飛快許多。
EUV光刻機被視為全球晶片競爭中最精密的製程設備之一，也是「科技冷戰」的核心技術，透過極紫外光在矽晶圓上刻畫比髮絲還細微的電路，以生產高階晶片。該技術長期由西方供應商壟斷，而陸方的最終目標，是以完全國產設備生產先進晶片，藉此拒止對美國及其盟友供應鏈的依賴。目前，大陸仍在複製西方供應商所生產的高精度光學系統面臨挑戰。
了解工程師招募內情的人士指出，部分自ASML被延攬至該計畫的資深中國工程師發現，除高額簽約獎金外，還配發了一張以假名簽發的身分證件，且在廠房內也見到多名ASML前同事，均以化名工作。另有兩名仍任職於ASML的華裔員工證實，自2020年起即多次接獲華為招募部門接觸。
分析指出，若相關進展屬實，將被視為中國推動半導體自給自足的重要里程碑之一，也是習近平高度重視的戰略目標。知情人士則透露，儘管中國半導體發展目標早已公開，但深圳的EUV計畫始終在高度保密狀態下進行。
對此，ASML透過聲明回應指出，其他企業試圖複製相關技術並不令人意外，但實際難度極高，公司亦嚴密保護自身商業機密。不過，歐洲隱私權法規限制ASML追蹤前員工動向，保密協議的跨境執行亦存在困難，目前尚不清楚ASML是否已對參與中國該計畫的前員工採取法律行動。
荷蘭情報機構今年4月曾示警，中國正透過廣泛的間諜活動，包括招募西方科學家與高科技企業員工等方式，試圖取得先進技術。
目前，全球僅ASML一家企業完整掌握EUV光刻機技術，單台設備價格約2.5億美元。其生產的晶片則由輝達（Nvidia）、超微（AMD）設計，並交由台積電、英特爾（Intel）與三星（Samsung）製造。
現階段，ASML的EUV光刻機系統僅供應美國盟友，包括台灣、韓國與日本。美國自2018年起即向荷蘭施壓，阻止ASML對中國出售EUV設備；2022年拜登政府進一步擴大出口管制，全面切斷中國取得先進半導體技術的管道。ASML也向路透證實，從未向中國客戶出售任何EUV光刻機系統。
